Staff(スタッフ)
Mouri Shinichiro (毛利 真一郎)
Associate Professor (准教授)
email address:iguchan@fc.ritsumei.ac.jp
Kuddus Abdul
Senior Researcher (専門研究員)
email address:kuddus37@fc.ritsumei.ac.jp
Student(学生)
M2
Koshiro Kawakami (川上 滉之郎） ➡ＣＶＤによる原子層半導体成膜
Riku Nambu (南部 利矩） ➡ＭＢＥによる窒化物結晶成長
Shunsuke Yamamura (山村 駿輔） ➡ミストＣＶＤによる酸化物成膜
Tianyi Wang (王 天一) ➡強誘電体上原子層半導体デバイス
Keisuke Izui (泉井 啓輔） ➡グラフェンモアレ超格子大面積化
Kishin Minato (湊 貴信） ➡CVDによる原子層半導体成膜
Tenryu Tamura (田村 天琉) ➡high-k酸化物上原子層半導体デバイス
M1
Takuto Inaba (稲葉 巧人) ➡強誘電体上でのh-BN成膜
Tatsuya Tanaka (田中 達也) ➡窒化物半導体上でのグラフェン直接成膜
B4
Dai Tsuchiya (土屋 大) ➡フレキシブルデバイスと接触抵抗
Yuta Yokochi (横地 勇汰 ) ➡high-k材料のDLTS
Yuki Matsuoka (松岡 友希) ➡hign-k材料へのTMD成長
Kenta Matsudo (松堂 健太) ➡TMD/CIPSの物性計測とデバイス創製
Kentaryo Sugimoto (杉本 健太郎 ) ➡モアレエピタキシー
Teruo Takata (高田 晃生 ) ➡high-k材料を使ったメモリスタデバイス応用
Yuma Tada (多田 悠馬) ➡MBEによる強誘電体ScAlN成長
Kefan Zhou (周 科帆 ) ➡リモートドーピングデバイス
Toshiki Hayashi (林 俊希 ) ➡ミストCVDを用いたHfO系材料の結晶成長
Alumini(卒業生)
2024年度
博士卒
Kaipeng Rong (栄 凱蓬)
修士卒
Shun Tonegawa (利根川 舜)
Tatsuki Uno (宇野 達貴)
Seita Bekku (別宮 清太)
Neo Sasuga (流石 新生)
Shoki Kanda (神田 将熙)
Kota Ueno (植野 康大)
Yusuke Kodama (兒玉 祐典)
学部卒
Taichi Omae (大前 太一)
Isshin Kimura (木村 一心)
Toshiya Kawahara (川原 利哉)
Waku Shimizu (清水 湧公)
Yuta Nakashima (中島 裕太 )
Tsuyoshi Akama (赤間 剛)
Yamato Takagi (高木 也馬都)
➡マイクロン,日東電工×２，ローム、東京エレクトロン、
三菱電機、浜松ホトニクス、カネカ、
イシダ、日立、近鉄、イビデン、アマダ、九大院進学、阪大院進学
2023年度
修士卒
Ryusei Kawase (河瀬流星)
学部卒
Peishan Yu (于 沛杉)
Yancen Hou （侯彦岑）
Kosei Beniya （紅谷光星）
Shota Uenaka (上中翔太)
➡スクリーンHD、東京科学大進学、海外大学進学、今村証券
2022年度
修士卒
Tomohiro Asada (浅田智浩)
Yuta Kawase (河瀬裕太)
Daiki Nakayama (中山大輝)
➡キオクシア、村田製作所、パナソニック
2021年度 (所属は荒木研）
修士卒
Kenta Matsushima (松島健太)
Jyuntaro Doi (土井惇太郎)
Syohei Yabuta (薮田翔平)
学部卒
Tadashi Tadamura (多田村充)
➡豊田合成、ローム、パナソニック、奈良先端大進学