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図1.png

Team(チーム)

​現在毛利グループは教授1名、ポスドク1名

学生17名(M8名、B9名)で活動しています。

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Staff(スタッフ)

Past member

Mouri Shinichiro (毛利 真一郎)

Professor (教授)

無題226.jpg

Kuddus Abdul

Senior Researcher (専門研究員)

Student(学生)

M2

Student

Keisuke Izui                  (泉井 啓輔)            ➡グラフェンモアレ超格子大面積化

Takuto Inaba                (稲葉 巧人)     ➡強誘電体上でのh-BN成膜

Tatsuya Tanaka            (田中 達也)     ➡窒化物半導体上でのグラフェン直接成膜

M1

Dai Tsuchiya                (土屋 大)       ➡フレキシブルデバイスと接触抵抗

Yuta Yokochi               (横地 勇汰 )      ➡high-k材料のTMDデバイス

Yuki Matsuoka            (松岡 友希)      ➡hign-k材料へのTMD成長

Kenta Matsudo           (松堂 健太)       ➡TMD/CIPSの物性計測とデバイス創製

Kentaryo Sugimoto  (杉本 健太郎 )         ➡モアレエピタキシー

Teruo Takata              (高田 晃生 )      ➡high-k材料を使ったメモリスタデバイス応用

Yuma Tada                  (多田 悠馬)      ➡MBEによる強誘電体ScAlN成長

Toshiki Hayashi         (林 俊希 )     ➡ミストCVDを用いたHfO系材料の結晶成長

B4

Kanta Asamoto              (浅本 幹大)       ➡hign-k材料へのTMD成長

Keita Kataoka                 (片岡 圭太)    ➡フレキシブル応用へ向けたTMD成長

Temka Takaya                 (高屋 天海)    ➡hign-k材料上のTMDデバイス特性評価

Ikunosuke Nakashima (中嶋 郁乃介)   ➡TMD系材料のTEM観察

Kodai Nakajima             (中嶋 広大)        ➡hign-k材料上のTMDデバイス特性評価

Yusuke Nakamura         (中村 優佑)    ➡TMD系材料のKFM/PFM観察

Eisaku Hatao                  (畑尾 栄作)    ➡ラマン分光によるTMDデバイスの温度評価

Reo Hayashi                    (林 玲央 )    ➡ミストCVDを用いたHfO系材料の成膜

Ryotaro Horiuchi          (堀内 遼太郎)   ➡hign-k材料上のTMD光物性評価

Kotaro Matsuda           (松田 倖大朗)  ➡MBEによるグラフェン上InGaN成膜

Daiki Michimoto         (道本 大輝)   ➡ミストCVDを用いたATO系材料の成膜

Syo Takahashi           (高橋 翔)    ➡TMDフレキシブルデバイスの開発

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Alumini

Alumini(卒業生)

2025年度

​修士卒

Koshiro Kawakami      (川上 滉之郎)      

Riku Nambu       (南部 利矩)       

Shunsuke Yamamura  (山村 駿輔)         

Tianyi Wang                  (王 天一) 

Kishin Minato               (湊 貴信)  

Tenryu Tamura             (田村 天琉)   

学部卒

Kefan  Zhou                (周 科帆 ) 

➡ソニーセミコンダクタソリューションズ、AGC、東京エレクトロン、東芝、オリンパス、富士電機、東京科学大院進学

2024年度

​博士卒

Kaipeng Rong  (​栄 凱蓬) 

​修士卒

Shun Tonegawa    (利根川 舜)

Tatsuki Uno          (宇野 達貴)

Seita Bekku           (別宮 清太)

Neo Sasuga            (流石 新生)

Shoki Kanda         (神田 将熙)

Kota Ueno              (植野 康大)

Yusuke Kodama   (兒玉 祐典)

学部卒

Taichi Omae           (大前 太一)

Isshin Kimura        (木村 一心)

Toshiya Kawahara (川原 利哉)

Waku Shimizu        (清水 湧公)

Yuta Nakashima     (中島 裕太 )

Tsuyoshi Akama     (赤間 剛)

Yamato Takagi        (高木 也馬都)

➡マイクロン,日東電工×2,ローム、東京エレクトロン、

三菱電機、浜松ホトニクス、カネカ、

イシダ、日立、近鉄、イビデン、アマダ、九大院進学、阪大院進学

2023年度

​修士卒

Ryusei Kawase (河瀬流星)

学部卒

Peishan Yu    (于 沛杉)

Yancen Hou   (侯彦岑)

Kosei Beniya (紅谷光星)

Shota Uenaka  (上中翔太) 

     ➡スクリーンHD、東京科学大進学、海外大学進学、今村証券

2022年度​

​修士卒

Tomohiro Asada    (浅田智浩)

Yuta Kawase            (河瀬裕太)

Daiki Nakayama    (中山大輝) 

     ➡キオクシア、村田製作所、パナソニック

2021年度 (所属は荒木研)​

​修士卒

​Kenta Matsushima  (松島健太)

Jyuntaro Doi             (土井惇太郎) 

Syohei Yabuta           (​薮田翔平)

学部卒

​Tadashi Tadamura (多田村充)

     ➡豊田合成、ローム、パナソニック、奈良先端大進学

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