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​半導体材料の合成

​毛利グループでは原子層材料(Graphene, TMDC)、high-k材料、酸化物材料、窒化物材料の合成を行っています。

原子層材料の合成(CVD,Mist-CVD)

毛利グループは現在1テーマでグラフェンの合成、　3テーマでMoS₂の合成を行っています。​

・窒化物半導体上へグラフェンの直接成長​

​​

​・加工基板上へMoS₂の合成

・モアレ超格子の性質を用いたMoS₂の合成

・high-k材料上へのMoS₂の合成

原子層材料を用いた半導体材料の合成(MBE, Mist-CVD)

毛利グループではグラフェンなどの原子層材料を　用いて窒化物材料、酸化物材料、high-k材料の合成をしています。

・MBE法による剝離可能な窒化物材料の合成

・リモートエピタキシーによる剥離可能な酸化物材料の合成

・ミストCVD法によるhigh-k酸化物の合成

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